Filosoof


[Foto]
De George Washington Universiteit, rond 1929, waar L. Ron Hubbard techniek, wiskunde en kernfysica studeerde.

      De derde doorslaggevende stap vormde Hubbard’s verblijf in Azië, waar hij bijna twee jaar lang rondreisde en studeerde. Hij was één van de weinige Amerikanen die werd toegelaten tot de befaamde Tibetaanse lamakloosters in de westelijke heuvels van China en studeerde daar zelfs bij de laatste in de lijn van de koninklijke magiërs van Kublai Khan’s hof. Maar, hoe boeiend dergelijke avonturen ook mogen zijn, hij verklaarde uiteindelijk er niets te hebben gevonden dat bruikbaar of voorspelbaar was met betrekking tot de menselijke denkwijze en geest.

      Na zijn terugkeer naar de Verenigde Staten in 1929, schreef Hubbard zich in aan de George Washington universiteit, waar hij techniek, wiskunde en kernfysica studeerde – disciplines die hem later goed van pas zouden komen tijdens zijn filosofisch onderzoek. L. Ron Hubbard was feitelijk de eerste die rigoureuze westerse wetenschappelijke methoden toepaste op de studie van spirituele zaken. Behalve fundamentale methodologie had de universiteit hem echter niets te bieden. Hij gaf later toe: „Het was duidelijk dat ik omging met, en leefde in, een cultuur die minder wist over het verstand dan de laagste primitieve stam die ik ooit had ontmoet, en „nu ik wist dat de mensen uit het Oosten niet zo ver en voorspelbaar in de raadsels van het verstand konden reiken als ik vroeger dacht, wist ik meteen dat ik heel wat onderzoek zou moeten doen”.



| Vorige | Volgende |
| Inhoud | Aanverwante Sites | Home | Overzicht | Boekhandel |

L. Ron Hubbard: A Profile English | L. Ron Hubbard, een Profiel Dutch
L. Ron Hubbard - Et Portrćt Dansk | L. Ron Hubbard, Ein Portrait Deutsch
L. Ronald Hubbard: Un Perfil Español | L. Ron Hubbard, Un Portrait Français
L. Ron Hubbard, Un profilo Italiano | L. Ron Hubbard, Egy Arckép Magyar
L. Ron Hubbard, Ett Porträtt Svenska | L. Ron Hubbard: A Profile Russian

info@scientology.net

© 1996-2004 Church of Scientology International. All Rights Reserved.

For Trademark Information